我的NanoHack重新設計

這是一款經(jīng)過重新設計的revee veion NanoHack面罩，可在這里找到：

有關(guān)我的掩碼重新設計的構(gòu)建教程和其他信息，請參見：

很明顯，這不是他們的v2.0設計。這是我根據(jù)他們的1.0版本重新設計的。
關(guān)于我想要進行設計更改的原因，請參見：
這與原始版本非常相似，但有一些小改動：
1） 進入過濾室的用戶側(cè)格柵已采用百葉窗方法進行了改造。這將使進出氣室的空氣流量增加大約100%，同時也為過濾器提供了更多的保護，防止用戶的直接噴霧。由于fi比原來的設計要薄，我喜歡在兩側(cè)用一些油漆膠帶蓋住過濾室，同時熱成型掩模。
2） 我擺脫了他們愚蠢的品牌，因為。。。我不喜歡在臉上貼廣告，我也不想向人們建議他們應該像以前那樣使用原始設計。
3） 我換了一點管道，以便更好地支持我在安裝口罩時所做的折疊。
4） 我把皮帶槽弄直了。直槽與較厚的肩帶，如織帶和緞帶更好地工作。
5） 我的濾筒的螺紋印得好多了，原來的濾帽更適合它們。我現(xiàn)在使用我重新設計的帽子：
6） 它不再在設計的任何部分使用原始網(wǎng)格，因此如果將其加載到FreeCAD中，甚至轉(zhuǎn)換為其他一些CAD程序，使用它比使用重網(wǎng)格要好得多。
我還加了一個帶兩個濾筒的面紗。大多數(shù)的設計工作是在一個帶有一個過濾筒的veion上完成的，目的是最大限度地增加進出過濾筒的流量。這導致了一個設計，其中一個氣缸足以滿足許多過濾材料。然而，有些濾料的表面壓降要高得多。增加表面（而不是重新設計褶皺材料）的一個簡單方法是添加第二個過濾器。為了方便起見，我添加了這樣一個修改過的veion。線的方向是一樣的，所以你可以打印第二個帽。不需要照帽子。
我已經(jīng)包含了FreeCAD源文件和STL，以防有人想修改它。
我在PLA做了大部分的設計工作。然而，我確實打印出了一個PET-G面紗，它的熱成型與熱槍。
我不是科學家、工程師或醫(yī)學專家。我不知道這個設計是實用的還是危險的。但我還是會在緊急情況下提供。
我把這卷我的馬克二設計，但它也作為我的馬克四面具設計的主要部分。
對于馬克二世，我把它打印出來然后熱成型。我用粘性背襯工藝泡沫做一個簡單的墊圈。我用一些重絲帶和皮帶扣零件從其他地方的thingivee來制作一個皮帶，我可以收緊不少。我使用我重新設計的帽子：
對于Mark IV，我跳過工藝泡沫，在這里使用我的TPU表面墊圈： II更好的密封。
馬克三世一到就不復存在了。我們不談這個。